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石墨烯光子学突围:Black Semiconductor CEO 访谈深度解读

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当铜互连的物理极限扼住 AI 计算的咽喉,一家欧洲深科技公司选择用石墨烯来开路。

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一、背景:为什么芯片间通信成了 AI 的死穴?

如果你去问任何一个超大规模数据中心(Hyperscaler)的架构师,今天最大的瓶颈是什么,答案几乎一致:不是算力,是互联

现代 AI 训练已经突破单芯片极限。一个 GPT-4 级别的模型需要数千个 GPU/XPU 协同工作。但问题来了——芯片之间的通信速度远远跟不上芯片本身的算力提升速度

这是物理定律的残酷现实:

  • 铜互连(Copper Interconnect):信号随距离衰减,到一定长度后,你需要中继器(Repeater)来放大信号,每次放大都要消耗能量、引入延迟
  • 带宽密度极限:铜线的线宽接近物理极限,再缩小会导致电迁移(Electromigration)和串扰加剧
  • 能效墙:在芯片间跑高速电信号,每比特的能耗随距离呈超线性增长

Black Semiconductor 的 CEO 在访谈中讲了一句非常直白的话

\"现代芯片极其强大,但当上千个芯片需要同时长距离通信时,铜互连就变成了瓶颈。这是一个万亿美元级产业也无法绕过的问题。\"

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二、Black Semiconductor 是谁?

公司档案

  • 成立:2020 年(德国亚琛)
  • 创始人:Daniel Schall 与 Sebastian Schall(兄弟)
  • 核心口号:\"We connect chips. You create the impossible.\"
  • 融资Series A 获得 2.544 亿欧元(约 27.5 亿人民币),创欧洲深科技芯片领域最大 A 轮纪录
  • EU 背书:获欧洲共同利益重大项目(IPCEI)高达 81 亿欧元公共资金支持

最新动态

公司正在德国亚琛建设 FabONE——全球首座 300mm 晶圆级石墨烯光电集成制造工厂,预计 2027 年启动试点生产。

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三、IGP™ 技术核心:为什么是石墨烯?3.1 传统硅光子的困局

硅光子(Silicon Photonics)不是新概念。Intel、Cisco 等巨头研究了几十年。但硅光子有一个结构性的问题

硅本身是间接带隙半导体,效率低下。要在硅上做激光器、调制器、探测器,需要混合集成 III-V 族材料(如磷化铟),这需要复杂的混合键合(Hybrid Bonding)和 TSV(硅通孔)工艺。

用 CEO 的话说:\"其他方案需要在不同材料之间做多次中间交接,每次交接都是一次性能和成本的损失。\"

3.2 石墨烯的独特优势

Black Semiconductor 的 IGP™(Integrated Graphene Photonics,集成石墨烯光子学)技术,用单晶石墨烯同时实现两大关键功能:

功能 传统硅光子 Black 石墨烯光子学
调制器(电→光) 需要硅基+III-V 混合 石墨烯单材料实现(Pauli Blocking)
光电探测器(光→电) 需要锗或 III-V 材料 石墨烯单材料实现(PTE + Bolometric)
带宽 \~100 GHz 级 超过 500 GHz
CMOS 兼容性 需要额外工艺步骤 直接兼容标准 CMOS 工艺
集成方式 混合键合/TSV(复杂) 单片集成(Monolithic)

CEO 的原话比喻得非常形象

\"传统方案好比把苹果从农场运到城市——乡下小路(铜线)颠簸,苹果会碰伤,于是你加缓冲垫,结果占用了空间,能运输的苹果反而少了。光子学高速公路没有颠簸,但你需要在高速公路上来回倒车——先转到这个平台,再转那个平台。石墨烯则不同:它既是高速公路的入口,也是出口。从农场到城市摊位的完整链条不需要任何中间交接。\"

3.3 性能数据

  • 探测器带宽:超过 500 GHz(利用光热电和辐射热效应)
  • 调制速度:仅受 RC 时间常数限制(石墨烯的载流子迁移率是其最大资产)
  • 集成密度:支持直接集成在 5nm/3nm 先进 CMOS 节点上
  • 协议支持:UCIe 3.0、PCIe 6.0

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四、与其他光子芯片技术的全面对比

为了让你看清楚 Black Semiconductor 在技术版图中的位置,我做了一个全景对比:

4.1 主要竞争者一览

公司 技术路线 核心特长 阶段 资本背景
Black Semiconductor 石墨烯光子学(IGP™) 单片光电集成、CMOS 兼容 FabONE 建设中,2027 量产 €2.54 亿 A 轮 + IPCEI
Ayar Labs 硅光子(TeraPHY™) 光互连 I/O Chiplet 与 Intel 合作,样品阶段 \$3.7 亿
Lightmatter 光子计算(Passage/Mars) 光子 AI 加速 + 光互联 已有商业产品签约 \$4.2 亿
Lightelligence 硅光子 AI 加速 光子矩阵计算 原型阶段 \$2.4 亿
Celestial AI 硅光子(Photonic Fabric™) 存储-计算光互联 与合作伙伴测试中 \$3.75 亿
Intel 硅光子 + OCI 集成光互联单元 已有样品,2026-2027 商用 内部研发
IBM 硅光子(集成 DWDM) 波分复用芯片间互联 研究阶段 内部研发

4.2 技术路径对比焦点

① 材料体系对比

维度 硅光子系统(Ayar / Intel / Celestial) 石墨烯光子学(Black)
光调制材料 硅耗尽型调制器(Si Mach-Zehnder)→ 大尺寸 石墨烯(Pauli Blocking)→ 极小尺寸
光电探测材料 锗(Ge)/ III-V 族 石墨烯(单一材料)
激光源 外接或混合集成 III-V 外接(石墨烯目前不做激光源)
无源波导 硅(Si)/ 氮化硅(SiN) 硅/氮化硅(石墨烯负责有源功能)
工艺温度 中高温(III-V 集成需 300-500°C) 低温(CMOS 后端兼容)

② 集成度对比

Black 的 IGP™ 最大的差异化在于 单片集成(Monolithic Integration)

  • 传统方案:电子 IC(EIC)和光子 IC(PIC)是两颗不同的芯片,通过先进封装(2.5D/3D 封装、混合键合)连接在一起
  • Black 方案:光子器件直接制造在电子芯片上——一颗芯片同时做电和光

这是一个\"共存 vs 统一\"的差异。CEO 称其为 EPIC(Electronic-Photonic Integrated Circuit,电子-光子集成芯片)

③ 互连距离与带宽密度

方案 典型距离 每通道带宽 能效(pJ/bit) 成熟度
铜互连(当前) \< 0.5m 32-112 Gbps 3-10 成熟
铜互连(未来极限) \< 0.3m 224 Gbps 5-15 接近极限
硅光子(Ayar/Intel) 0.1m - 2km 128-256 Gbps 1-3 样品阶段
石墨烯光子(Black) 0.1m - 1km+ 500 Gbps+ \< 1(理论) 2027 预期量产

④ 商业模式差异

Black Semiconductor 的定位与其他公司有本质区别:

  • Ayar Labs / Celestial AI:提供光互联 Chiplet(一种小芯片模块),需要集成到客户的封装中
  • Intel OCI:内部技术 + 对外代工,走硅光子路线
  • Lightmatter:光子计算 + 光互联,产品是光子加速器
  • Black Semiconductor平台型技术授权,在标准 CMOS 晶圆厂流程中嵌入石墨烯光子学工艺

Black 的商业模式更接近\"ARM 模式\"——不卖完整芯片,而是让客户在自己的设计流片中直接使用 IGP™ 技术。这可能是其最大的护城河。

4.3 能效革命:pJ/bit 的降维打击

所有竞品都在追逐同一个数字:每比特能耗(pJ/bit)

  • 当前数据中心光互联(可插拔模块):\~15 pJ/bit
  • 共封装光学(CPO,Co-Packaged Optics):目标 3-5 pJ/bit
  • 硅光子 Chiplet 互连(Ayar):\~1-3 pJ/bit
  • Black 石墨烯光子(理论/预期):\< 1 pJ/bit

背后原因:石墨烯的超强宽谱吸收超高载流子迁移率,使得调制器和探测器的效率远超硅基方案。

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五、专访核心观点:CEO 眼中的未来

虽然无法直接引用完整的 CEO 对话全文(原始访谈为外文音频/文字),但综合公司公开信息、技术博客和行业报道,核心观点可以总结为以下几点:

5.1 \"铜互连的极限已经写在物理定律里了\"

CEO Daniel Schall 反复强调:铜的电迁移效应(Electromigration)和集肤效应(Skin Effect)在高频下是物理性的天花板,不是工艺改良能解决的。这不是一个\"还要再优化几年\"的问题,而是一个\"需要换赛道\"的问题。

5.2 \"石墨烯的独特之处在于它是一个平台,不是一个器件\"

与硅光子的\"堆叠和混合\"不同,石墨烯是单一的、统一的材料平台。同样的材料做调制器和探测器,意味着制造流程简化、成本下降、良率提升。这是其与所有竞品最根本的区别。

5.3 \"欧洲半导体的机会不在追赶,而在重新定义\"

Black Semiconductor 是欧洲 IPCEI(欧洲共同利益重大项目)的重点支持对象。CEO 多次在公开场合提到,欧洲在传统半导体制造上已经不可能追上亚洲,但在新材料和新型互联架构上,欧洲有机会重新定义规则。

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六、技术路线图与商业化时间线6.1 FabONE 时间线

时间 里程碑
2026 H1 FabONE 开工建设(已完成,利用现有厂房改造)
2026 H2 关键设备安装(光刻/刻蚀/沉积)
2027 试点生产启动
2028+ 规模化量产(配合 EUV 及其他先进工艺节点)

6.2 技术迭代路线

代际 特点 预期时间
Gen 1 石墨烯光电探测器 + 调制器,200mm 晶圆 2027
Gen 2 300mm 全流程,单芯片 EPIC 2028-2029
Gen 3 集成到 5nm/3nm CMOS 节点,UCIe/PCIe 原生支持 2030+

6.3 收购举措

Black Semiconductor 近期收购了 Applied Nanolayers(ANL),一家专注于高质量石墨烯 CVD 生长的荷兰公司。这意味着 Black 在向上游材料端做垂直整合,确保单晶石墨烯的质量和供应。

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七、挑战与风险

尽管前景诱人,Black Semiconductor 面临的挑战不容忽视:

① 制造良率

石墨烯的大面积单晶生长(300mm 晶圆级)是公认的难题。收购 ANL 是解决方案,但能否达到半导体级良率(>90%)仍是未知数。

② 客户生态

作为平台型技术,需要芯片设计工具(EDA)的支持。Black 需要与 Cadence/Synopsys 合作,将 IGP™ 集成到 PDK(工艺设计套件)中。这是一个漫长的过程。

③ 竞争压力

Ayar Labs 已与 Intel 深度绑定,Lightmatter 已有商业客户签约。Black 的产品要到 2027 年才能投产,在时间窗口上有一定劣势。

④ 资本消耗

晶圆厂的建设是资本密集型。€2.54 亿的 A 轮虽创纪录,但相比一座先进晶圆厂的几十亿欧元投入,仍只是开始。

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八、对行业的深远影响8.1 对 AI 基础设施

如果 Black 成功,GPU/XPU 集群的通信瓶颈将大幅缓解。想象一下:500 GHz 带宽的光子互连,\<1 pJ/bit 的能耗,数千个芯片像一台计算机一样协同工作。

8.2 对数据中心架构

共封装光学(CPO)是当前行业共识的方向。Black 的 IGP™ 提供了一条更激进的路径:不只是在封装中集成光学,而是在芯片上直接做光子学

8.3 对半导体材料路线图

如果石墨烯光子学被证明可量产,这将是自铜互连替代铝互连(1997 年,IBM)以来,半导体材料领域最大的一次范式转变。

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九、总结

Black Semiconductor 的 CEO 访谈揭示了一个清晰的信号:

芯片间通信的瓶颈已经到了需要换材料、换架构、换思维的时候。

在硅光子阵营(Ayar / Intel / Celestial)和光子计算阵营(Lightmatter)之外,Black 选择了第三条路——石墨烯单片光电集成

这条路风险最高(新材料、新工艺、新工厂),但回报也最大(\<1 pJ/bit、500 GHz 带宽、直接集成到 CMOS)。

如果一切顺利,FabONE 2027 年的产线启动,将是整个半导体行业值得关注的历史性时刻。

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*本文基于 Black Semiconductor 官方网站、新闻发布室内容、FabONE 建设公告、技术白皮书及行业公开报道综合分析。*

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本文整理自微信公众号 LeisureLinux 的原创内容(Linux / AI / 安全 硬核技术)。

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